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公司名称：
上海兑爵商贸有限公司
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参考价格：
未标明
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发布时间：
2006-06-08
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| 产品描述： |
| NORTM是一种专注于纳米制造的工具，有利于创造性的科研工作者设计和制备一般技术难以达到的纳米结构。能够实现这种纳米结构的技术便是Dip-Pen纳米平版印刷术(Dip Pen NalithographyTM，简称DPN)。该技术由美国西北大学的Prof. Mirkin研究小组所开发。DPN是一种简单方便的从AFM针尖到基底传输分子的方法，其分辨率可与电子束刻蚀等方法相比，对纳米器件的功能化更为有用。用AFM的针尖作“笔”，固态基底作“纸”，能与基底有化学作用力的分子作“墨水”，分子通过凝结在针尖与基底间水滴的毛细作用直接“书写”到基底表面。
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NORTM奈米结构制程技术的详细介绍
NorTM包括如下配置：
1. InkCAD system control: 全部的设计，书写和成像的功能
2. Closed-Loop Scanning 闭环扫描保证完善的线性和降低热漂移的影响
3. Three-point Leveling 扫描平面与样品之间的三点水准测量
4. Environmental Chamber 集成的湿度温度控制环境腔
5. InkCal: 使用InkCalTM标定的墨水扩散来实现可重复再现的结果，从而控制目标的尺寸。
6. Integrated micro-and nanoscale alignment 集成的微米纳米级的校准，使用InkFinderTM/InkAlignTM来保证墨水和笔的互换
7. InkFinder: 获取AFM信息（如LFM、表面形貌和误差等）及用于样品和针尖的微观对准（当进行多种“墨水”书写和多层纳米刻蚀时）
8. InkAlign：多层刻蚀时，实现纳米级定位对准
9. Dots & Lines: 创造图形阵列，每个图形含有一系列的点和/或线
10. Lattice：在一个定义的区域里创造均匀、扩展的点阵列
11. NanoWord：结合线和点，写出用户定义的文本文字
12. InkMap：将一个大的图形文件转成由点组成的最佳化图案，该图案由DPN制作
13. SampleBias：在样品和针尖之间加上偏压，可进行电化学AFM辅助的DPN实验
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