技术参数：

 可提供各种不同材料、周期、功能的极限尺度光栅，一期产品，采用纳米压印技术结合电子束镀膜、反应离子刻蚀等现代微加工技术制造，光栅周期500~100nm，极限尺寸可<100nm，可用于各类高分辨光谱仪、精密数控机床、卫星导航和导弹制导等民用、军事高端领域。 

另外还可提供高密度自支撑透射金属光栅，一期产品，采用纳米压印技术结合电子束镀膜、反应离子刻蚀、等现代微加工技术制造，自支撑光栅的极限周期可达100nm，即光栅密度达到10000线/mm。可用于民用核能监测、天文航天探测等高技术领域。