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TEM用氮化硅薄膜窗
氮化硅薄膜窗特点
• 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用
• 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性
• 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；
• 均匀性：减少了不同区域的不均匀性；
• TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75°
• 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm
• 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。
• 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本
• 可应用于高温试验环境： >1000° C
• 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析
• 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量；
• 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像
• 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装
• 框架厚度：200 and 50µm ：200µm是标准的TEM支撑架；50µm是特殊的TEM支撑架
• 标准框架直径为3mm
• 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性
氮化硅薄膜窗规格
单窗口系列
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窗口类型
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薄膜厚度
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窗口尺寸
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框架尺寸
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框架厚度
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20nm
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500x500µm
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Φ3mm
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100µm
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20/50nm
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500x500µm
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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1000x1000µm
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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100x100µm
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Φ3mm
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200µm
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15nm
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0.25x0.25mm
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm
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Φ3mm
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200µm
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200nm
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0.25x0.25mm 0.5x0.5mm
0.75x0.75mm
1.0x1.0mm
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Φ3mm
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200µm
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15/50/200nm
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0.25x0.25mm
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Φ3mm
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50µm
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50nm
/200nm
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0.5x1.5mm
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Φ3mm
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50µm
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多窗口系列
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窗口类型
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薄膜厚度
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窗口尺寸
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框架尺寸
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框架厚度
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50nm
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2x1阵列，100X1500µm
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Φ3mm
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200µm
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15nm
/50nm
/200nm
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2x1阵列，100X1500µm
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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2x1阵列，100X1500µm
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Φ3mm
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50µm
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10nm
/20nm
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3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm
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Φ3mm
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100µm
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10nm
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3x3阵列，8个窗口250X250µm，
1个窗口250X500µm
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Φ3mm
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100µm
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20nm
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3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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3x3阵列，8个窗口100X100µm，
1个窗口100X350µm
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Φ3mm
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100µm
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15nm
/50nm
/200nm
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3x3阵列，窗口100X100µm，
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Φ3mm
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200µm
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50nm
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3x3阵列，窗口100X100µm，
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Φ3mm
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50µm
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8nm
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单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75µm ，网格间距：25µm；
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Φ3mm
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200µm
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应用简介：
1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。
2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。
3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
4、背景氮化硅无定形、无特征。
5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。
6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。
7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。
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