优点:
- SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。
- x-射线显微镜中,装载多个分析样的唯一方法。
- 无氮
应用:
氧化硅薄膜应用范围非常广,甚至有时使不可能变为可能,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):
● 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。
● 作为耐用(如“强力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。
● 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。
● 聚焦离子束(FIB)样本的装载,我们推荐使用多孔薄膜,而非不间断薄膜。
氧化硅薄膜TEM网格操作使用:
如果正确操作,氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反,若用工具直接接触薄膜,则会即刻损坏薄膜。为防损坏,可用尖嘴镊子小心夹取,就像夹取其他TEM网格一样。
使用前清洁:
氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离,并对外框进行打磨,因此这些微小碎片不可避免。尽管如此,我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。
如果用户确实需要对这些碎片进行清理,我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物,用H2O:HCl: H2O2(5:3:3)溶液清洁金属。
通常不能用超声波清洗器清洁薄膜,因超声波可能使其粉碎性破裂。