AWOS—SL02图像冠层分析仪的详细介绍
原理和方法
采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法。
特点
1.非破坏性地测定冠层结构
2.可以测量冠层内外的光合有效辐射（PAR）
3.手持式万向接头自动水平调整探头，
4.随身携带的笔记本计算机可以帮助你正确选点取样，即时决定图像的取舍
5.由计算机电池提供电源极其轻便、便于观测，尤其适合完成野外繁重的观测任务
6. 图像分析软件可以任意定义图像分析区域（天顶角可分10区，方位角可分10区）。对不同方向的冠层进行区域性分析时，可以任意屏蔽地物景像和不合理的冠层部分（如缺株、边行问题等）。对不同天顶角起始角和终止角的选择，可以避开不符合计算该冠层结构参数的冠层孔隙条件
7.通过USB接口直接将测点图像显示在计算机上，可以在野外即时观察图像，选择合理的测点，将图像存贮。
8.半球图象上可以设计任何地点、任何时间的太阳视运动轨迹，以及冠层内任意时刻的受光状况。
技术参数
1.镜头角度：150°
2.分辨率：768×494pix
3.测量范围：天顶角由0°～75°（150°鱼眼镜头）可分割成十个区域，方位角360°亦可分割成十个区域。
4．PAR感应范围：感应光谱400～700nm。 测量范围0～2700μmol/m2•s
5.分析软件：专业ECA-GC02软件。
6.显示和内存：7英寸华硕笔记本。
7.电 池：电脑电池。
8.传输接口：USB
9.工作温度：0～55℃
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