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微波消解/萃取系统MARS
微波消解/萃取系统MARS
详细信息
美国CEM公司一直被称为微波化学创始者, 曾11次荣获R&D100大奖, 在分析仪器界独占鳌头, CEM是唯一具有微波仪器设计和制造ISO-9001认证证书的专业微波制造商, 开发并拥有微波化学界90% ( 300余项)的专利技术, 作为全球最大的专业微波化学仪器生产商, 其产品占世界市场分额的80%+, 几乎所有的微波化学国际标准方法, 如: EPA, AOAC, ASTM, NIST等均由CEM与相关机构共同开发并推荐给广大应用化学家。 MARS是唯一获得R&D100大奖的微波样品前处理仪器, 实现了实验化学家对于密闭微波化学反应系统的安全性、科学性和高效性要求的不懈追求。
CEM 微波消解 Mars系统主机
1. 电源要求: AC 220V 50Hz
2. 电源消耗: 3300W (15 A)
3. 微波安装功率: 2500W, 专业磁控管
4. 微波输出功率: 0-1600W, IEC 标准
5. 微波功率控制: 专利的全范围非脉冲输出, US. P. XXXXXX
6. 微波频率: 2450MHz, 行业标准
7. 炉腔材料: 316级全不锈钢结构, 多层抗强腐蚀氟聚合材料涂层
8. 湍流排风: M: 500W大功率风机组
9. 出 入 口: In: R 5x10cm, L 5x15cm, Out: Φ13.5cm
10. 排 风 量: 5.8m3/min (350m3/h)
11. 冷却方式: 安全的快速自动风冷/水冷
12. 打印接口: 标准25针串行打印机接口
13. 数据接口: 标准RS232远程控制接口
14. 扩展接口: 圆形RS232检修&扩展接口
15. 数据安全: 21 CRF Part 11标准控制
16. 控制软件: 内置TimeWave, PC Synergy
17. 故障自检: BITS系统(Build-in Test System)
18. 输入键盘: 触摸式防溅耐腐蚀复合键盘
反应控制系统 (根据应用选配)
1. 双光束多目标温控系统 Dual IR, 实时检测控制并显示所有反应罐内的温度和曲线, 范围: 10-300℃;
2. 高频光纤温控系统RTP-300 Plus, 实时检测控制并显示反应罐内的温度和曲线, 范围: -40-300℃;
3. 高频多目标温控系统DuoTemp, 实时检测控制并显示所有反应罐的温度和曲线, 自动监控调节反应最剧烈的样品参数, 并显示受控样品位置编号, 可设置允许误差0-5℃;
4. 全罐压力控制系统ReactiGuard, 实时监控所有反应罐压力, 超压自动调整/停止微波发射并自动报警, 范围: 0-1500psig;
5. 压电晶体压控系统ESP-1500 Plus, 实时检测控制并显示反应罐内的压力和曲线, 范围: 0-1500psig;
6. 其它检测选件: UP Sensor, S Sensor等。
反应罐组件 (根据应用选配)
高压/超高压反应罐: 最高压力1500psig, 最高温度300 ℃, 材质TFM, PFA, Pyrex, 石英等, 反应罐体积100uL -100mL, 批处理量12-40个样品/批次。
美国CEM公司一直被称为微波化学创始者, 曾11次荣获R&D100大奖, 在分析仪器界独占鳌头, CEM是唯一具有微波仪器设计和制造ISO-9001认证证书的专业微波制造商, 开发并拥有微波化学界90% ( 300余项)的专利技术, 作为全球最大的专业微波化学仪器生产商, 其产品占世界市场分额的80%+, 几乎所有的微波化学国际标准方法, 如: EPA, AOAC, ASTM, NIST等均由CEM与相关机构共同开发并推荐给广大应用化学家。 MARS是唯一获得R&D100大奖的微波样品前处理仪器, 实现了实验化学家对于密闭微波化学反应系统的安全性、科学性和高效性要求的不懈追求。
CEM 微波消解 Mars系统主机
1. 电源要求: AC 220V 50Hz
2. 电源消耗: 3300W (15 A)
3. 微波安装功率: 2500W, 专业磁控管
4. 微波输出功率: 0-1600W, IEC 标准
5. 微波功率控制: 专利的全范围非脉冲输出, US. P. XXXXXX
6. 微波频率: 2450MHz, 行业标准
7. 炉腔材料: 316级全不锈钢结构, 多层抗强腐蚀氟聚合材料涂层
8. 湍流排风: M: 500W大功率风机组
9. 出 入 口: In: R 5x10cm, L 5x15cm, Out: Φ13.5cm
10. 排 风 量: 5.8m3/min (350m3/h)
11. 冷却方式: 安全的快速自动风冷/水冷
12. 打印接口: 标准25针串行打印机接口
13. 数据接口: 标准RS232远程控制接口
14. 扩展接口: 圆形RS232检修&扩展接口
15. 数据安全: 21 CRF Part 11标准控制
16. 控制软件: 内置TimeWave, PC Synergy
17. 故障自检: BITS系统(Build-in Test System)
18. 输入键盘: 触摸式防溅耐腐蚀复合键盘
反应控制系统 (根据应用选配)
1. 双光束多目标温控系统 Dual IR, 实时检测控制并显示所有反应罐内的温度和曲线, 范围: 10-300℃;
2. 高频光纤温控系统RTP-300 Plus, 实时检测控制并显示反应罐内的温度和曲线, 范围: -40-300℃;
3. 高频多目标温控系统DuoTemp, 实时检测控制并显示所有反应罐的温度和曲线, 自动监控调节反应最剧烈的样品参数, 并显示受控样品位置编号, 可设置允许误差0-5℃;
4. 全罐压力控制系统ReactiGuard, 实时监控所有反应罐压力, 超压自动调整/停止微波发射并自动报警, 范围: 0-1500psig;
5. 压电晶体压控系统ESP-1500 Plus, 实时检测控制并显示反应罐内的压力和曲线, 范围: 0-1500psig;
6. 其它检测选件: UP Sensor, S Sensor等。
反应罐组件 (根据应用选配)
高压/超高压反应罐: 最高压力1500psig, 最高温度300 ℃, 材质TFM, PFA, Pyrex, 石英等, 反应罐体积100uL -100mL, 批处理量12-40个样品/批次。
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无
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